所属栏目：先进材料化学
在这一节,我们讨论化学气相沉积(和物理气相沉积)作为一种沉积方法在微电子工业中的选择性应用,该沉积方法可以沉积纯金属、半导体、绝缘体和元素混合物。读者可以参考以下关于应用金属CVD在集成电路的金属化工艺中进行薄膜 ......（本文共 12426 字 , 6 张图） [阅读本文] >>
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