三、非晶硒数字平板技术原理

所属栏目:电气设备X射线数字成像

非晶硒数字平板成像原理可称为直接成像,非晶硒数字平板结构与非晶硅不同,其表面直接用硒涂层,当X射线撞击硒层时,硒层直接将X射线转化成电荷,存储于TFT内的电容器中,所存的电容与其后产生的影像黑度成正比。扫描控制器读取电 ......(本文共 190 字 )     [阅读本文] >>


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