所属栏目：平板显示释疑
目前制作非晶硅基板通用的是5Mask工艺,即需要五道光刻工艺(如图1所示)。图1 五道Mask工艺步骤第一道光刻工艺:形成栅电极图形,其主要作为扫描线走线、面板周边配线、端子部金属以及一些标记图案(标记图案用于接下来工序的对位 ......（本文共 811 字 ） [阅读本文] >>
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